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三星3nm EUV技术迎来转机:美国企业联手助力提高良率
发布时间:2022年11月21日 15:51:08 好文 人已围观
简介三星在先进工艺领域近年来一直落后于台积电,但在3nm节点上于6月底宣布量产,领先台积电至少半年。然而,尽管量产成功,三星的3nm产品目前仅获得一家矿卡公司的采用,尚未获得大...
近年来,三星在先进工艺领域一直处于落后状况,特别是在与台积电的竞争中。然而在3nm节点上,三星于6月底宣布其量产,领先台积电至少六个月。
不过,三星的3nm量产至今仅有一家矿卡公司采用,尚未获得大客户的支持。之前有传言称有一家手机芯片制造商也会参与,但至今未见相关产品的消息。
三星的3nm工艺为何显得声势浩大但进展缓慢?厂商们的谨慎态度其实是有道理的,三星在良率方面的历史表现不佳,3nm工艺中采用了最新的GAA晶体管技术,同时也更加依赖EUV工艺,导致大规模生产的良率难以保障,据传三星的4nm工艺良率仅为35%,因而更先进的3nm生产更是面临挑战。
三星正努力改进自己的工艺,根据韩国媒体的报道,三星与美国Silicon Frontline公司达成了合作协议,双方已经合作一段时间,成果将应用于3nm工艺。
Silicon Frontline的技术能够降低晶圆加工中的缺陷,从而提高芯片的良率,两家公司对技术合作的进展表示满意,但关于具体良率提升的相关数据尚未公布。
对于三星而言,只要能够解决芯片工艺技术的问题,就有可能从台积电手中争夺市场份额。高通在不久前发布的第二代骁龙8中也明确表示,将继续与三星合作,并计划在最快两年内使用GAA工艺,这意味着三星的3nm工艺前景看好。
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