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台积电前研发副总林本坚发表看法：美国对中国进步的限制毫无意义！
发布时间：2023年10月30日 12:06:59 人物 人已围观
简介据彭博社报道，台积电前研发副总林本坚在接受采访时指出，美国无法阻止中国大陆公司在先进制程芯片技术的发展。他被誉为“浸没式光刻之父”，此番言论引发了广泛关注，强调了...
10月30日的消息，据彭博社报道，“浸没式光刻之父”、前台积电研发副总林本坚(Burn J. Lin)在近期接受采访时罕见地指出，美国无法彻底阻止中国大陆在先进制程芯片技术方面的进展，且认为中国能够依靠现有设备继续推动至下一个5nm制程工艺。
报道提到，华为最新发布的基于国内先进制程工艺的麒麟处理器令美国感到震惊，这证明了中国企业能够利用已有的旧设备生产出更复杂的芯片。
林本坚表示，中国在芯片技术上已实现突破，打破了美国试图遏制其技术发展的限制。“美国不可能完全阻挡中国在芯片技术上的进步。”他相信中国现有的设备足以将制程工艺推进至5nm。
针对美国最近再次升级半导体出口限制，林本坚指出，尽管美国采取制裁措施限制技术转让，但中国厂商在开发第二代7纳米级制造工艺方面展现了显著的韧性与创造力。此外，这项技术已实现足够的生产能力，使华为能够规划供应7000万部智能手机。
据悉，中国最新的先进制程工艺采用了来自荷兰ASML的Twinscan NXT:2000i系列光刻机，这是一种深紫外(DUV)光刻设备，可以生产7nm与5nm级别的芯片。
Twinscan NXT:2000i的分辨率（≤38nm）足以满足7nm单图案光刻的批量生产需求。然而，今年早些时候，荷兰政府限制了对该设备的出口到中国。
此外，在进行5nm级工艺技术时，需要更为精细的分辨率。
为此，芯片制造商可以使用Twinscan NXT:2000i进行双重、三重甚至四重图案化，这是一种更为复杂的光刻技术，涉及把一个图案分割成多个，并按顺序印刷这些图案，目的是在半导体制造中实现更高的精度和细节。多重图案化过程较为复杂，可能会影响生产效率及每个晶圆可用芯片的数量，因此常因经济原因受到限制。
然而，由于受限于已有的设备，中国的芯片制造商只能选择采用多重图案化方式来获得更高的分辨率。显然，这一策略已经达到了华为所能接受的良率。这也表明，美国政府的限制措施未能产生预期的效果。
林本坚指出：“美国更应该专注于保持其芯片设计的领导地位，而不是试图抑制中国的发展，这样的做法毫无意义，还会损害全球经济。因为中国正在以国家战略推动其芯片产业的发展。”
