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海力士、SanDisk与美光:我们同样拥有3D闪存技术
发布时间:2013年08月19日 10:18:57 三星 人已围观
简介三星电子已成功量产3D垂直堆叠NAND闪存,并推出基于该技术的首款固态硬盘。在最近举行的闪存峰会上,SK海力士、SanDisk和美光也相继展示了各自的3D闪存技术,显示出激烈的市场竞争。...
三星电子已率先在市场上实现了3D垂直堆叠NAND闪存的量产,并推出了基于这种技术制造的首款固态硬盘。同时,在最近举行的闪存峰会上,SK海力士、SanDisk和美光等公司也积极展示了各自的3D闪存技术。
首先我们来关注一下三星的创新。
当前,三星已经实现了24层的堆叠,并且每颗芯片的容量为128Gb(16GB),而预计到2017年该容量将提升至单颗1Tb(128GB)。
全球首款基于3D V-NAND闪存的固态硬盘,从外观上看与传统产品相似。
得益于3D闪存技术,获得同等存储容量所需的颗粒数量显著减少,且其性能优越(持续写入速度提升22% / 随机写入速度提升20%)并且功耗大幅降低(平均功耗降低27% / 峰值功耗降低45%)。
现场展示了由SK海力士制造的300毫米闪存晶圆,该产品也使用了3D堆叠技术,其单颗芯片容量同样为128Gb(16GB),属于MLC NAND类型。
海力士预计将在2014年第一季度正式投放市场。
海力士的3D闪存晶圆
2D与3D NAND闪存的结构对比
SanDisk与东芝合作研发了3D NAND闪存,命名为“BiCS”,不过预计直到2015年下半年才会进入试生产阶段,显得起步较晚。
SanDisk表示届时将采用1z nm工艺。
——闪存行业通常不清晰标示具体制造工艺(至少在初期是模糊的),而是使用1x、1y、1z nm等分类标识,技术逐渐先进,如1x通常代表19nm,1y大约在15nm左右,而1z则接近10nm。
SanDisk NAND闪存工艺及技术发展路线图:2013年底至2014年初投产1y nm,2014年底到2015年初投产1z nm,3D闪存将于2015年下半年推出
由于3D闪存滞后,SanDisk在发布会上将重点放在2D闪存技术上
在3D闪存领域,SanDisk显得逐渐落后
美光作为闪存行业的长期领军者,当然也会参与这场竞争,但其对于3D闪存的介绍比较模糊,仅表示将在适当的时候与大家分享更多信息。
根据计划,美光将量产其16nm闪存工艺,随之推出的将是与Intel合作的3D闪存,容量达到256Gb(32GB)