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发布时间：2022年09月28日 15:17:47 好文人已围观

简介随着半导体工艺发展至7nm以下，EUV光刻机成为关键设备，全球仅ASML公司能生产。目前，NA 0.33孔径的EUV光刻机价格已达1.5亿美元，预计下一代设备价格将更高。这些光刻机在芯片制造中发...

随着半导体技术迈向7nm门槛，EUV光刻机成为了不可或缺的重要设备，目前全球仅有ASML公司具备生产能力。目前，NA 0.33孔径的EUV光刻机价格已高达1.5亿美元，约合10亿元人民币，而下一代设备的成本预计将更加高昂。

光刻机在制造芯片时的核心指标是光刻分辨率，其中镜头的数值孔径（NA）越大，表现越佳。目前的NA 0.33孔径EUV光刻机能够支持3nm和2nm工艺的量产，但要实现更先进的技术，NA 0.55孔径的新一代光刻机，即High NA EUV是必需的，专为制造2nm以下的工艺所设计。

预计High NA EUV将在明年开始交付样机，Intel抢先布局，已购买了首批High NA EUV光刻机，传闻单机价格超过3.4亿美元，约合25亿元人民币。

不过，High NA EUV的最终售价尚未确定，未来可能会达到4亿美元，折合人民币则超过28亿元。

High NA EUV光刻机不仅本身价格高，且使用成本也在不断上升，由于功耗大幅增加，ASML最近证实High NA EUV光刻机额外需消耗0.5MW的功率，加上目前的1.5MW，总功耗将达到2MW，也就是200万瓦。

若设备全天候运转，这意味着下一代光刻机每天的电能消耗将达到48,000度，这样的费用对芯片制造企业来说是巨大的，简直就是个电老虎。