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• 美国新型BAT激光器问世：EUV光刻能源效率翻倍提升！

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  美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）近日推出了一种新型大孔径铥（BAT）激光器，旨在推动极紫外（EUV）光刻技术的进步。该激光器的效率被认为超越了当前ASML EUV光刻机所使用的激...

  2025-01-07【最新】

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• 美国研发下一代BAT激光器：效率提升十倍，超越当前EUV光刻技术！

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  美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室正在研发一种新型激光器，其效率比传统CO2 EUV激光器高出10倍。这项研究有望为下一代极紫外光刻技术的发展提供重要基础，推动相关技术的进步。该激...

  2025-01-06【最新】

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• 售价25亿的“电老虎”：下一代EUV光刻机的功耗激增至200万瓦

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  随着半导体工艺发展至7nm以下，EUV光刻机成为关键设备，全球仅ASML公司能生产。目前，NA 0.33孔径的EUV光刻机价格已达1.5亿美元，预计下一代设备价格将更高。这些光刻机在芯片制造中发...

  2022-09-28【好文】

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• 美国成功研发0.7nm芯片：突破硅原子两倍宽度，超越EUV光刻机技术！

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  美国公司Zyvex在电子束光刻技术上取得了突破，成功制造出768皮米（0.7nm）的芯片，适用于量子计算机。与此同时，ASML的EUV光刻机仍在努力应对2nm和1nm芯片的生产挑战。...

  2022-09-23【好文】

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• 台积电回应：EUV光刻机每天耗电3万度，是否需要停机节能？

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  台积电因先进工艺产能过剩，传出将于年底关闭部分EUV光刻机以节省电费。对此，台积电未正面回应市场传闻，表示公司对设备的管理有年度规划，并遵循既定计划。...

  2022-09-07【好文】

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• 台积电拟停用部分EUV光刻机以应对日耗电3万度和先进工艺过剩问题

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  EUV光刻机是半导体制造的关键设备，只有ASML公司能生产，售价约10亿人民币。过去，三星和台积电等公司争相购买，但今年半导体市场形势变化，因耗电过多，台积电计划关闭部分设备...

  2022-09-01【好文】

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• 英特尔创新工艺再提速：4nm EUV获赞无数，1.8nm测试已开启

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  最近有报道称Intel的14代酷睿Meteor Lake处理器因台积电3nm代工的GPU核显问题面临延期，但Intel官方已否认此传闻，表示14代酷睿进展顺利，预计在2023年上市。此款处理器对Intel的未来发展至...

  2022-08-05【好文】

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• ASML新一代EUV光刻机正式启动：关键组件已到位，投资达26亿元

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  荷兰ASML公司公布2022年第二季度财报，净销售额为54.31亿欧元，超出市场预期的52.6亿欧元，较去年同期增长35%。毛利润达到26.65亿欧元，较上一季度的17.31亿欧元显著上升。...

  2022-07-20【好文】

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• 日本计划 2027 年量产 2nm，首台 EUV 光刻机已接收：重 71 吨分四阶段安装

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  日本初创晶圆代工厂 Rapidus 成功接收首台 ASML EUV 光刻机，成为日本首家拥有该设备的公司。...

  2024-12-19【最新】

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• 日本计划 2027 年量产 2nm，首台 EUV 光刻机已接收：重 71 吨分四阶段安装

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  日本初创晶圆代工厂 Rapidus 成功接收首台 ASML EUV 光刻机，成为日本首家拥有该设备的公司。...

  2024-12-19【最热】

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