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日本计划 2027 年量产 2nm，首台 EUV 光刻机已接收：重 71 吨分四阶段安装
发布时间：2024年12月19日 12:03:59 最新 人已围观
简介日本初创晶圆代工厂 Rapidus 成功接收首台 ASML EUV 光刻机，成为日本首家拥有该设备的公司。...
12 月 19 日消息，据报道，Rapidus，这家日本初创晶圆代工厂，已成功接收其订购的首台 ASML EUV 光刻机，这也是日本国内首次引入用于量产的 EUV 光刻设备。
Rapidus 成为了日本首家拥有 EUV 光刻机的企业。由于该 EUV 系统体积庞大，重达 71 吨，其完整设备将分四个阶段进行安装，预计本月底可在晶圆厂内完成。
Rapidus 首席执行官小池淳义在新千岁机场举行的仪式上表示，公司将从北海道和日本向全球提供最先进的半导体。
Rapidus计划于 2025 年春季完成 2nm 芯片原型的开发，并在 2027 年实现量产。相比之下，台积电则计划在 2025 年开始量产 2nm 芯片。
ASML 是目前全球唯一的 EUV 光刻机供应商，每台设备的成本约为 1.8 亿美元以上，去年全球仅交付了 42 台。
资料显示，日本曾在 20 世纪 80 年代占据全球超过 50%的半导体市场份额，但到 21 世纪初已退出先进逻辑制程芯片的竞争。
Rapidus 的成立旨在重振日本先进芯片的生产能力，减少对进口芯片的依赖。日本政府的目标是到 2030 年实现国内半导体销售额达到 15 万亿日元，是 2020 年的三倍。
